基材
特殊激光應用的基材，如腔環(huán)時間光譜或EUV鏡的特點是：
Ø•的幾何形狀：
對于直徑，厚度，緯度或曲率半徑等幾何特性的公差，請參見我們目錄的第12頁
Ø• 表面粗糙度
Ø•表面形狀公差
Ø•拋光表面上的缺陷數(shù)量。
ØLAYERTEC已經(jīng)優(yōu)化了所有這些參數(shù)的拋光程序。在下文中，我們展示了使用熔融二氧化硅和氟化鈣實現(xiàn)的一些突出的成果。
規(guī)格
Ø表面粗糙度
Ø•對于熔融二氧化硅和氟化鈣的平面基板，RMS - 粗糙度<1.5Å
Ø•平滑彎曲的球形熔融石英表面（取決于直徑和曲率半徑）的相似結果，
Ø•即使在紫外線范圍內，基板的散射損耗也很低：
Øo在248nm處的TS = 2×10 -5（總后向散射）
Ø在193nm處，TS = 5.6×10 -4（總后向散射）和7.5×10 -4（前向散射）
Ø即使在DUV / VUV波長范圍內也適用于低損耗光學元件
高質量拋光熔融石英基板的功率譜密度（PSD）曲線（在FhG IOF Jena進行測量）
高質量拋光CaF2基板的3D AFM測量（在FhG IOF Jena進行），均方根粗糙度為0.12nm
表面容差
Fused silica | Plane | λ/20 (633nm) for diameters of 6.35mm … 101.6 mm |
Spherical | λ/10 (633nm) for diameters of 6.35mm … 38.1mm | |
CaF2 | Plane | λ/10 (633nm) for diameters of 12.7mm … 25.4 mm |
λ/4 (633nm) for diameters of 38.1mm … 50.8 mm | ||
Spherical | λ/4 (633nm) for diameters of 12.7mm ... 50.8mm |
表面質量
Material | ISO 10110 (∅25mm) | Approximay equivalent to MIL-O-13830 |
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Fused Silica | 5/1x 0.010 L1x 0.0005 | Scratch - Dig 5 - 1 |
CaF2 | 5/1x 0.016 L1x 0.0010 | Scratch - Dig 10 - 2 |
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